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梁宗文; 石浩; 王雯洁; 王溯源; 章军云;
南京电子器件研究所;
365 nm步进式光刻机; 漏光; 掩模版; GaAs单片微波集成电路;
机译:热处理锐钛矿TiO2中表面缺陷的刻面依赖性演化:对光催化的环境应用的影响
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机译:镜头FPD和LH对光刻工艺CD控制的影响
机译:包装线工艺对光泽度的影响,以及使用光泽度作为“红色美味”苹果(Malus domestica)的涂层完整性和品质的指标
机译:合成工艺对光学性能的影响Ho3 + / Yb3 +共掺杂的YVO4荧光粉的制备:比较研究
机译:工艺参数对光物理性能和钼酸钡荧光粉特性的影响
机译:制造二元光学器件:对光学效率至关重要的工艺变量
机译:监测掩模工艺对光刻性能影响的方法和装置
机译:对光刻工艺中的薄膜堆叠形貌影响建模
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