低压化学蒸汽淀积选择性能钨设备

机译：通过低压化学气相沉积和光催化应用的化学蒸汽渗透，通过低压化学蒸汽沉积生长薄氧化钛

机译：使用不同催化剂的低压化学蒸汽渗透通过低压化学蒸汽渗透的SiC纳米线的生长

机译：关于使用羰基钨化学汽相淀积工艺制备W涂层PFM和W管的提案和研究

机译：低压化学气相沉积钨薄膜与薄SiO_2薄膜兼容的MIDGAP金属门的制备与性能

机译：高性能离子回旋共振质谱和计算机图形识别技术在低压金属离子化学电离剂（仪器，化学计量，激光电离）研究中的应用。

机译：高性能纯钨的选择性激光熔化：参数设计致密化行为和机械性能

机译：选择性低压化学气相沉积形成钨层的界面结构

机译：单晶硅上LpCVD（低压化学气相沉积）钨膜隧道形成条件

机译：低温多晶硅薄膜的元件及其在低温下直接淀积的多晶硅薄膜的方法及其感应耦合等离子体化学气相淀积设备

机译：低压化学汽相淀积的自动关闭和吹扫气体清洁方法

机译：低压化学汽相淀积扩散装置的废气压力监测系统及监测方法