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TFT-LCD行业中涂胶设备参数对胶宽波动的影响

         

摘要

本文通过对影响涂胶工艺的设备参数,包括Gap、基台移速,针头出胶速度、针头出胶加减速,回吸时间等多个参数的研究,提出了改善胶宽波动的方法。首先,通过全因子实验找出湿面积与Gap、基台移动速度、针头出胶速度的最优组合。然后对胶宽波动较大位置(始终端、进出拐角)进行研究,基台移动速度对于胶宽的变化呈负相关性,针头出胶加减速与胶宽变化呈正相关性,根据基台移动速度与针头出胶加减速对湿面积的影响程度,将两者建立起公式对应关系:A=V1-V2/Vt-V0/A+√2GH导入到量产中,提升了胶宽的稳定性,有效改善了胶宽的波动,将溢胶相关不良发生率从0.3%降低到0.03%。

著录项

  • 来源
    《电子技术与软件工程》 |2021年第21期|P.53-55|共3页
  • 作者单位

    鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 内蒙古自治区鄂尔多斯市017020;

    鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 内蒙古自治区鄂尔多斯市017020;

    鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 内蒙古自治区鄂尔多斯市017020;

    鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 内蒙古自治区鄂尔多斯市017020;

    鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 内蒙古自治区鄂尔多斯市017020;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 中等教育;
  • 关键词

    胶宽; 湿面积; 涂胶工艺; 窄边框; 涂胶参数;

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