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胶膜工艺; 光刻; 大功率晶体管;
机译:提高首过合格率:基于激光的焊膏沉积和组件放置检查可以显着提高首过合格率
机译:使用分散有量子点纳米晶体的光刻胶膜提高白色OLED显示器的光学效率
机译:增强的光刻胶膜选择性和NiCr的反应离子刻蚀工艺优化
机译:使用分布式,组合的全局/局部搜索方法有效地优化光刻工艺条件
机译:一种热力学可变方法,用于建模归因于随机光刻结果和高k介电各向异性的纳米级MOS器件管芯内静电行为
机译:薄膜微结构性能和工艺条件的组合优化:迭代纳米级搜索自组装TiAlN纳米薄片
机译:用于亚微米图形光刻的氧化物光刻胶膜的物理性质
机译:热干岩地热能转换系统的模拟与优化:工艺条件与经济学
机译:光刻胶膜形成材料,光刻胶膜形成用组合物,光刻胶膜,图案形成方法和纯化方法
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