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用溅射法制备混合集成电路中的Ci·SiO薄膜电阻器

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介绍应用溅射工艺制备Cr·SiO薄膜电阻器的方法,通过大量的实验及不断的工艺优化,制备出了高精度、高稳定性、低TCR的HIC中的薄膜电阻器基片,并已投入批量生产.

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来源
《电子元器件应用》 |2002年第8期|46-47,58|共3页
作者
王军峰; 殷小莉; 陈福山;
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作者单位

西安微电子技术研究所,陕西,西安,710054;

西安微电子技术研究所,陕西,西安,710054;

西安微电子技术研究所,陕西,西安,710054;

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正文语种 chi
中图分类薄膜电阻器;
关键词
薄膜电阻器; 混合集成电路; 溅射;

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