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张志正; 郑建锋;
中国电子科技集团公司第二十七研究所,郑州450047;
干扰效能; 干扰概率; 远场光斑功率密度; 光学传输模型;
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机译:激光刻蚀技术制备电致盲PDLC膜的方法
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