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邹云娟; 宋雪梅; 王波; 陈光华; 严辉;
北京工业大学应用物理系;
掺杂; 电导率; 碳60; 光电性; 薄膜; 半导体;
机译:La @ C_(60),C_(60)Br_(24)的高效制备和硫掺杂的C_(60)薄膜的电导率
机译:硼掺杂富勒烯C_(60)薄膜涂层对锂二次电池硅薄膜阳极电化学特性的影响
机译:单取代C_(60)-丙二酸化学修饰的纳米结构SnO_2薄膜的制备及光电流产生
机译:RF磁控溅射制备的掺杂掺杂氧化锌(AZO)薄膜光电特性的影响
机译:薄膜宽带隙半导体:结构,光电特性的制备,掺杂和表征。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:掺杂C_ {60}和C_ {60}中的晶格畸变和能级结构 C_ {70}研究了扩展的su-schrieffer-Heeger模型:polaron 激发和光学吸收
机译:离子束溅射制备低掺杂sn掺杂In2O3(ITO)薄膜。
机译:原子层沉积法中用卤化物掺杂部分氧化物薄膜的卤化物掺杂源,制备卤化物掺杂源,原子层沉积法中用卤化物掺杂部分氧化物薄膜和卤化物的方法用该方法制成的掺杂氧化物薄膜
机译:合成用于光电子制氢的硫掺杂的钼薄膜催化剂的方法及制备该方法的光电子的方法
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