首页> 中文期刊> 《软件》 >基于双向LSTM和注意力机制的DNA N4-甲基胞嘧啶修饰位点识别

基于双向LSTM和注意力机制的DNA N4-甲基胞嘧啶修饰位点识别

     

摘要

目的:DNA N4-甲基胞嘧啶(4mC)修饰是原核DNA中重要的表观遗传修饰,因为它在调节DNA复制和保护宿主DNA免受降解等多种生物学过程中起着至关重要的作用.因此,4mC位点的准确鉴定有助于深入研究其生物学功能和机制.然而4mC位点的实验鉴定是费时且昂贵的,特别是考虑到基因序列的快速累积,急需找到有效的计算方法加以改进.在本研究中,方法:我们针对上述问题将CNN,Attention机制和双向LSTM相结合,构建了一个多层深度学习预测系统用于识别DNA N4-甲基胞嘧啶修饰位点.结论:基于注意力机制的深度学习框架不仅能快速有效处理数据,同时也能提高识别结果准确度,提升识别效率.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号