精神分裂症患者大脑灰质结构异常的VBM初步分析

摘要

目的 评价基于体素的形态学分析法(VBM)分析精神分裂症大脑灰质结构的价值.方法 采用GE Signa TwinSpeed 1.5T超导型MRI成像系统,对9例精神分裂症患者和9例年龄、性别与之相匹配的正常人行全脑扫描,获取16～18层脑结构MR T1图像.数据分析采用以SPM2软件包为基础的全自动VBM技术进行处理.结果 与正常对照组比较,精神分裂症患者灰质明显减少区域在双侧前扣带回、前额叶、右侧颞上回(P＜0.005),且大脑灰质减少具有不对称性,前额区偏侧化系数(AIs)为+0.19,颞区为-0.50.灰质明显增多的区域在右前额叶与右枕区、左顶下小叶(P＜0.005),也具有不对称性,前额区AIs为-0.77,顶叶+1.00,枕区为-0.73.结论 精神分裂症患者大脑灰质结构异常.VBM法具有简便、自动化的特点,在精神分裂症脑形态结构研究方面前景广阔.