HCD法离子镀梯度镀层组成的研究

摘要

一般的高真空高压离子镀会导致加工物表面粗糙、加工物温度上升，因而影响镀层的性质，而HCD法则没有以上这些缺点，极适合于工业应用。研究HCD法在低温240 ℃下，于SKH51热作工具钢上被覆Ti (C,N) 陶瓷梯度镀层，改变反应气体的组成百分比 (C2H2 : N2) , 来探讨其所形成镀膜的特性。