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唐伟涛; 马成伟;
临沂市工程咨询院 276001;
单斜相HfO2; 电子结构; 光学性质; 第一性原理;
机译:第一性原理局部密度近似+ U方法研究单斜HfO2的光学性质
机译:用第一性原理局部密度近似+ U方法研究单斜晶ZrO2的电子结构和光学性质
机译:含氧空位VO2 +的PbWO4晶体光学性质的第一性原理研究
机译:随着风速的增加,储备余量的减少:定量的第一性原理分析。
机译:掺杂钇的ZnO单层空位的电子结构和光学性质的第一性原理计算
机译:单斜HfO2的光学性质研究的第一性原理 密度近似+ U方法
机译:简单金属空位和空位聚类的电子结构
机译:基于ZRO2和/或HFO2和TI单斜晶体磷酸的X射线辐射增强屏幕
机译:通过使用含卤素的化学或化学物质和/或含氧的氧化剂或增氧剂和有机碳模拟物或类似物处理有机相物质的方法,和/或萃取或沉淀物质的方法通过使用含卤素的化学或化学物质和/或含氧的氧化剂或氧化剂和有机碳模拟物或类似物从有机相物质中提取和/或从有机相物质中分离出有机物,以及为该方法使用植物或植物的方法
机译:液相法合成HfO2薄膜的硝酸HA合成方法
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