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YSZ/Si薄膜的化学溶液沉积法制备研究

     

摘要

为了在一定的基板上生长出性能优越的YBCO膜,需要首先在基板上生长出合适的缓冲层(buffer layer)后,再在其上制备YBCO膜.本论文采用化学溶液法制备Y0.15Zr0.85O δ/Si缓冲薄膜,研究不同退火温度和膜厚对其取向和微结构的影响.

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