退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
刘继广;
上海华虹宏力半导体制造有限公司,上海浦东201203;
高温氮气退火; 缺陷; 硅晶体; 氧化膜;
机译:棱柱形高温气冷堆中的全陶瓷微囊燃料:设计基准事故中反应堆行为对燃料性能的敏感性以及SiC缺陷退火工艺的潜在影响
机译:通过通过调整热退火工艺通过精致控制的氮官能化产生通过精致控制的氮气官能化的过氧键硫酸盐活化来增强磺乙胺硫化物的降解
机译:在77-500 K的注入过程中和注入之后,硅基半导体中的缺陷结构的产生和退火
机译:在氮气氛中延长高温退火引起的硅晶片中的晶体缺陷
机译:电场对磷化铟半导体结中稳定的辐射诱导缺陷的形成和退火的影响。
机译:高温氧中后退火工艺对SnO2纳米线场发射的显着增强
机译:高温退火条件下碲化镉晶体中产生缺陷的过程的热力学分析
机译:GaN的超高温快速热退火;半导体工艺中的材料问题
机译:闪存器件的制造包括:在半导体衬底上形成氧化膜;在氮气气氛下执行预退火工艺;将氧化膜硝化;以及进行后退火工艺。
机译:通过高温退火在III-V型半导体表位中的缺陷减少
机译:具有缺陷减少区域的单晶半导体晶片和用于退火的相关工艺缺陷-在单晶半导体晶片的情况下
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。