原位程序升温脱附(TPD)方法的建立及其应用实例

摘要

介绍了在ＶＧＥＳＣＡＬＡＢ２１０电子能谱仪上自己研制组装的用于研究单晶金属表面吸附层的原位ＴＰＤ装置。研制的单晶样台采用钽丝加热，最高加热速度可达３０Ｋ／ｓ，线性升温范围－１００－１００℃，最高可达１０００℃以上。