BiI3-nylon11纳米复合材料的XPS及ATR-IR分析

摘要

用X射线光电子能谱法(XPS)测定了BiI3与nylon11作用生成纳米复合材料后聚合物中酰胺基团的N、O内层能级电子结合能变化,同时用衰减全反射红外光谱法(ATR-IR)研究了BiI3一nylonll复合材料中BiI3对尼龙酰胺基团之间氢键作用的影响.结果表明,与纯nylon11聚合物相比,BiI3-nylon11纳米复合材料中Nls、Ols的结合能要稍高一些;N-H伸缩振动、酰胺Ⅰ谱带、酰胺Ⅱ谱带振动频率在X射线照射前均发生显著位移,而X射线照射后没有明显的变化,只是谱带变宽.另一方面,无论X射线照射与否,CH2伸缩振动基本不变.实验所得结果对于理解聚合物中氢键相互作用及其对复合材料的结构和性能的影响有一定意义.