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日本三井金属珐业株式会社;
铝合金薄膜; 线电路; 靶材; 电极电位; ITO膜; 硅扩散; 发明; 电阻率; 耐热性; 含碳;
机译:通过溅射Cu-Zn和Cu-Sn靶材使堆叠的前驱体硫化而形成Cu_2ZnSnS_4薄膜的相形成
机译:直流磁控溅射沉积ZnO薄膜:靶材配置对薄膜性能的影响
机译:靶材生产工艺对靶材性能,溅射工艺和磁光薄膜的影响
机译:复合靶材和合金靶材制备的Pt-Co薄膜的磁和磁光性能
机译:使用脉冲激光沉积从多相靶材制造Heusler合金薄膜。
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:LLTO薄膜的微观结构和离子电导率:靶材中不同基材和过量锂的影响
机译:薄膜电路中嵌入有限宽度地平面的微带线耦合
机译:铝合金薄膜和具有该薄膜和用于形成锡膜的靶材的布线电路
机译:铝合金薄膜和线路具有形成薄膜的薄膜和靶材
机译:铝合金薄膜和线路具有薄膜和用于形成薄膜的靶材
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