首页> 中文期刊> 《铝加工》 >铝合金薄膜和具有该薄膜的配线电路以及形成此薄膜的靶材

铝合金薄膜和具有该薄膜的配线电路以及形成此薄膜的靶材

         

摘要

本发明的目的在于提供一种具有与ITO膜同等水平的电极电位、不存在硅扩散、电阻率低、耐热性优异的铝合金薄膜。本发明的含碳铝合金薄膜的特征是,含有0.5-7.0at%的选自镍、钴、铁的至少一种以上的元素和0.1-3.0at%的碳,余分为铝。更好的是本发明的铝合金薄膜中还含有0.5-2.0at%的硅。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号