非晶金刚石薄膜的场致电子发射性能研究

摘要

利用真空过滤弧沉积技术制备一种高ｓｐ＾３含量的非晶碳膜－非晶金刚石薄膜，并对这种非晶金刚石薄膜的场电子发射特性及其发射机理进行了研究，实验结果表明，在阈值电场工于２０Ｖ／μｍ情况下，得到的场发射电流达２０－４０μＡ，薄膜的电子发射行为符合ＦｏｗｌｅｒＮｏｒｄｈｅｉｍ场发射理论，研究表明，这种非晶金刚石薄膜负的电子亲合势和较有功函数以及相对较低的禁带宽度。