微波等离子体化学汽相沉积法沉积CNx膜的研究

摘要

对用微波等离子化学汽相沉积法在Ｓｉ基片上的ＣＮｘ膜分别进行Ｒａｍａｎ散射、Ｘ射线光电子能谱、Ｘ射线衍射和扫描电子显微镜等技术的分析与测试、Ｒａｍａｎ散射的研究结果在ＣＨ４与Ｎ２的流量比低于１：８时，ＣＮｘ膜的散射谱中以非晶石墨峰的形式出现，当流量比为１：８时，则表现为较尖锐的Ｃ＝Ｎ键的特征峰；从Ｘ射线光电子能谱的分析结果可以看出Ｃ，Ｎ成键的方式主要是Ｃ＝Ｎ键和Ｃ－Ｎ键，但Ｘ射线衍射中的并没有的应用