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多层介质膜脉冲压缩光栅近场光学特性分析

         

摘要

利用傅里叶模式理论分析了TE波自准直角入射的使用条件下,多层介质膜光栅的光栅区和多层膜区电场分布的特点.分别讨论了HfO2和SiO2为顶层光栅材料时,光栅结构参数对光栅脊峰值电场的影响,结果表明,对于不同膜厚的顶层材料,存在一个最佳膜厚度,使光栅脊峰值电场最小,并且当膜厚增大时,设计大高宽比的光栅可以降低该电场峰值.最后,在大角度条件下使用多层膜光栅也可以降低光栅脊处的峰值电场.

著录项

  • 来源
    《物理学报》 |2006年第9期|4588-4594|共7页
  • 作者单位

    中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

    中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

    中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

    中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

    中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院研究生院,北京,100049;

    中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

    中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 流变学;
  • 关键词

    衍射光学; 多层介质膜光栅; 模式理论; 损伤阈值;

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