一种可用于直接计算产生寿命的产生区宽度模型

摘要

本文在分析已有的深耗尽态下半导体表面产生区宽度模型的基础上,提出了一个可用于由MOS结构的电容时间瞬态特性直接计算产生寿命的新模型。该新模型可以看作是Rabbani Rabbani模型的一种简化,但同时又可看作是对Zerbst模型的一个改进。实验数据的分析表明,用该模型得到的产生寿命值与Rabbani模型的结果基本一致。