首页> 中文期刊> 《化学学报》 >纳米二氧化硅对镍电沉积影响及在复合镀层中的化学键合状态

纳米二氧化硅对镍电沉积影响及在复合镀层中的化学键合状态

         

摘要

用线性扫描伏安法和电位阶跃法研究了n-SiO2/Ni复合电刷镀体系的电化学响应,探讨了纳米颗粒的影响;用X射线光电子谱研究了复合镀层中n-SiO2颗粒表面与基质金属间的相互作用.结果表明纳米颗粒使金属沉积过电位显著降低,电流效率、金属成核率及晶体生长速度增加,纳米颗粒对金属镍电结晶有明显的催化效应;n-SiO2表面氧的不饱和化学键与表面扩散过程中吸附态金属Ni原子键合形成Ni-O键,纳米颗粒与基质镍以化学键方式结合.

著录项

  • 来源
    《化学学报》 |2004年第20期|2010-2014|共5页
  • 作者单位

    装甲兵工程学院;

    装备再制造技术国防科技重点实验室;

    北京;

    100072;

    装甲兵工程学院;

    装备再制造技术国防科技重点实验室;

    北京;

    100072;

    装甲兵工程学院;

    装备再制造技术国防科技重点实验室;

    北京;

    100072;

    装甲兵工程学院;

    装备再制造技术国防科技重点实验室;

    北京;

    100072;

    装甲兵工程学院;

    装备再制造技术国防科技重点实验室;

    北京;

    100072;

    装甲兵工程学院;

    装备再制造技术国防科技重点实验室;

    北京;

    100072;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 化学;
  • 关键词

    纳米颗粒; 复合电沉积; 化学键合; 共沉积机理;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号