首页> 外文学位 >From Novel Processes to Industry-Relevant Applications: Atomic Layer Deposition of Metal, Metal Oxide, and Metal Carbide Thin-Films

【24h】

From Novel Processes to Industry-Relevant Applications: Atomic Layer Deposition of Metal, Metal Oxide, and Metal Carbide Thin-Films

机译：从新的工艺到行业相关应用：金属，金属氧化物和金属碳化物薄膜的原子层沉积

获取原文

获取原文并翻译 | 示例

页面导航

著录项
相似文献
相关主题

著录项

作者
Stevens, Eric Christopher.;
展开▼
作者单位

North Carolina State University.;

展开▼
授予单位 North Carolina State University.;
学科
学位 Ph.D.
年度 2018
页码 241 p.
总页数 241
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类 AAI11007220;
关键词
Ald; Atomic layer deposition; Nanotechnology; Semiconductor; Surface science; Thin film;

机译：ald;原子层沉积;纳米技术;半导体;表面科学;薄膜;

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Facile Conversion of Hydroxy Double Salts to Metal-Organic Frameworks Using Metal Oxide Particles and Atomic Layer Deposition Thin-Film Templates [J] . Junjie Zhao, William T. Nunn, Paul C. Lemaire, Journal of the American Chemical Society . 2015,第43期

机译：使用金属氧化物颗粒和原子层沉积薄膜模板将羟基重盐轻松转化为金属有机骨架
2. Electrical properties of GaAs metal–oxide–semiconductor structure comprising Al2O3 gate oxide and AlN passivation layer fabricated in situ using a metal–organic vapor deposition/atomic layer deposition hybrid system [J] . Takeshi Aoki, Noboru Fukuhara, Takenori Osada, AIP Advances . 2015,第8期

机译：使用金属-有机气相沉积/原子层沉积混合系统原位制造的包括Al2O3栅氧化物和AlN钝化层的GaAs金属-氧化物-半导体结构的电性能
3. Area-Selective Atomic Layer Deposition of Metal Oxides on Noble Metals through Catalytic Oxygen Activation [J] . Singh Joseph A., Thissen Nick F. W., Kim Woo-Hee, Chemistry of Materials: A Publication of the American Chemistry Society . 2018,第3期

机译：通过催化氧活化的区域 - 选择性原子层沉积贵金属的贵金属
4. ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD) OF OXIDES,NITRIDES,CARBIDES AND METALS [C] . Roy G.Gordon The Meeting of the Electrochemical Society . 2003

机译：氧化物，氮化物，碳化物和金属的原子层沉积（ALD）
5. Atomic Layer Etching of Metal Oxides and Atomic Layer Deposition of Metal Fluorides. [D] . Lee, Younghee. 2015

机译：金属氧化物的原子层蚀刻和金属氟化物的原子层沉积。
6. Area-Selective Atomic Layer Deposition of Metal Oxideson Noble Metals through Catalytic Oxygen Activation [O] . JosephA. Singh, #, Nick F. W. Thissen, -1

机译：金属氧化物的区域选择性原子层沉积氧活化对贵金属的影响
7. Optimization of plasma enhanced atomic layer deposition processes for oxides, nitrides and metals in the Oxford Instruments FlexAL reactor [O] . Hodson, CJ, Singh, N, Heil, SBS Stephan, 2007

机译：优化牛津仪器FlexAL反应器中的氧化物，氮化物和金属的等离子增强原子层沉积工艺
8. Nucleation and Growth of Noble Metals on Oxide Surfaces Using Atomic Layer Deposition [R] . Elam, J. W., Zinovev, A. V., Pellin, M. J., 2007

机译：原子层沉积氧化物表面贵金属的成核与生长

From Novel Processes to Industry-Relevant Applications: Atomic Layer Deposition of Metal, Metal Oxide, and Metal Carbide Thin-Films

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅