University of Alberta (Canada);
机译:化学机械平面化应用中K {sub} 3 [Fe(CN){sub} 6]浆料的pH值和施加电势对钨去除率的影响
机译:通过在钨 - 薄膜化学机械平坦化中使用苹果酸选择性剂,通过使用苹果酸选择性剂在钨膜和二氧化硅膜之间的高度选择性抛光速率
机译:Y2O3纳米片用作铜化学机械平面化的浆料研磨剂
机译:钨化学机械平面化通量改进优化工艺
机译:浆料化学物质对铜化学机械平面化的影响。
机译:化学机械平面化过程中浆料混合程度和可用性的浆料注入方案
机译:YO纳米片用作铜化学机械平面化的浆料研磨剂