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極短ゲートMOS電界効果トランジスタ用ゲート酸化膜と超薄膜SOI構造の研究利用統計を見る

机译：参见有关超短栅极MOS场效应晶体管的栅极氧化物和超薄SOI结构的研究利用统计

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作者
三木浩史;
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作者单位

東京大学;

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授予单位東京大学;
学科
学位博士
年度 1990
页码 1-202
总页数 202
原文格式 PDF
正文语种 eng
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