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Modeling and design of halide chemical vapor deposition for silicon carbide epitaxial film growth

机译：用于碳化硅外延膜生长的卤化物化学气相沉积的建模和设计

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作者
Wang, Rong;
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作者单位

University of Maryland Baltimore County;

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授予单位 University of Maryland Baltimore County;
学科
学位 Ph.D.
年度 2008
页码 198 p.
总页数 198
原文格式 PDF
正文语种 eng
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