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The effects of ion implantation on the fatigue behavior of metals.

机译:离子注入对金属疲劳行为的影响。

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摘要

The effects of ion implantation on the fatigue behavior of metals were investigated. High stacking fault energy FCC materials of aluminum and copper, low stacking fault energy FCC material of austenitic stainless steel and HCP material of titanium were ion implanted by boron or nitrogen at energies of 50 KeV to 3 MeV. The doses were from 10;Cracks nucleated at these slip bands and propagated along them. A composite model is presented to qualitatively analyze the effect of ion implantation on fatigue strength.
机译:研究了离子注入对金属疲劳行为的影响。铝或铜的高堆垛层错能FCC材料,奥氏体不锈钢的低堆垛层错能FCC材料和钛的HCP材料通过硼或氮以50 KeV至3 MeV的能量离子注入。剂量从10开始;裂纹在这些滑移带上成核并沿其传播。提出了一个复合模型来定性分析离子注入对疲劳强度的影响。

著录项

  • 作者

    Wang, Jih-Jong.;

  • 作者单位

    Case Western Reserve University.;

  • 授予单位 Case Western Reserve University.;
  • 学科 Engineering Materials science.;Materials science.
  • 学位 Ph.D.
  • 年度 1989
  • 页码 266 p.
  • 总页数 266
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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