Etude du rayonnement emis par un plasma d'argon en presence de vapeur metallique.

摘要

Au cours des dernieres annees, les plasmas thermiques ont suscite un interet de plus en plus grandissant.;Ce changement des proprietes du plasma affecte le transfert d'energie a l'interieur du plasma et entre le plasma et le milieu exterieur et les profils de temperature dans le plasma peuvent etre profondement modifies (Pr;Par ailleurs, il est etabli experimentalement que l'injection de vapeur metallique dans un plasma abaisse sa temperature de 1000, 2000 voir meme 3000 K (Ch;L'etude du rayonnement emis par un plasma est un sujet qui attire depuis toujours l'attention des chercheurs qui s'interessent a la caracterisation des plasmas sans avoir a les perturber. Pour le milieu "plasma" ce rayonnement constitue une perte d'energie et selon les applications ce phenomene peut etre considere comme benefique (refroidissement rapide des arcs de disjoncteurs, lampe de puissance ...) ou comme nefaste (perte d'energie dans certains reacteurs a plasma, rendement des torches, erosion des parois ...). Ainsi, l'etude du transfert radiatif dans les plasmas thermiques constitue un probleme important tant pour les travaux de modelisation mathematique des plasmas que pour les etudes experimentales des caracteristiques des plasmas et de leurs utilisations technologiques.;Les techniques de projection par plasma sont basees sur l'injection des particules solides dans un jet de plasma afin de les chauffer et les fondre. L'evaporation de ces particules contamine le plasma avec les vapeurs et modifie par la suite ses coefficients de transport de courant electrique, de la chaleur et de la quantite de mouvement (Ab;Les travaux de modelisation necessitent la connaissance des pertes radiatives qui interviennent dans toute equation de bilan d'energie pour pouvoir acceder aux temperatures dans le plasma. Les etudes experimentales utilisent le rayonnement emis comme moyen de diagnostic du plasma. En effet a partir de l'emissivite d'une raie et du fond continu adjacent par exemple, on peut remonter a la temperature et a la densite electronique en tout point du plasma. (Abstract shortened by UMI.).