声明
1 前言
1.1 抗生素废水的特点和危害
1.2 抗生素废水的处理
1.2.1 物理处理
1.2.2 化学处理
1.2.3 生物处理
1.3 光催化技术的研究现状
1.3.1 半导体光催化技术的原理
1.3.2 半导体光催化技术的发展
1.3.3 半导体光催化性能的主要影响因素
1.3.4 半导体光催化剂的改性
1.4 Bi2O3的基本属性
1.5 Bi2O3的制备
1.5.1 模板法
1.5.2 水/溶剂热法
1.5.3 溶胶-凝胶法
1.5.4 微乳液法
1.5.5 液相沉淀法
1.6 Bi2O3的应用
1.6.1 氧化铋在光催化领域的应用
1.6.2 氧化铋在其他领域的应用
1.7 Bi2O3光催化材料的改性
1.7.1 金属负载
1.7.2 离子掺杂
1.7.3 半导体复合
1.8 本课题研究内容、意义和技术路线
1.8.1 本课题主要研究内容
1.8.2 本课题研究意义
1.8.3 本课题技术路线
参考文献
2 Bi2O3材料的制备和表征分析
2.1 实验流程
2.2 实验试剂和仪器
2.3 Bi2O3材料的制备
2.4 Bi2O3材料的表征方法
2.5 Bi2O3材料的表征分析
2.5.1 TG分析
2.5.2 SEM分析
2.5.3 元素组成分析
2.5.4 比表面积分析
2.5.5 FT-IR分析
2.5.6 XRD分析
2.5.7UV-Vis DRS分析
2.5.8 PL荧光光谱分析
2.6 本章小结
参考文献
3 Bi2O3材料制备的影响因素
3.1 沉淀剂用量对Bi2O3材料形貌的影响
3.2 水浴温度对Bi2O3材料形貌的影响
3.3 热处理温度对Bi2O3材料形貌的影响
3.4 Bi2O3材料形成机制分析
3.5 本章小结
参考文献
4 Bi2O3材料的光催化性能
4.1 光催化实验装置和操作
4.1.1 光催化实验装置
4.1.2 光催化性能的测试
4.1.3 光催化实验操作
4.1.4 降解动力学模型
4.2 TCH溶液的降解率和影响因素
4.2.1 TCH溶液的标定
4.2.2 TCH溶液自降解的影响因素
4.3 Bi2O3光催化性能的影响因素
4.3.1 光催化剂的添加量
4.3.2 光照强度
4.3.3 溶液初始pH
4.3.4 溶解氧
4.4 Bi2O3光催化性能研究
4.4.1 Bi2O3光催化降解性能
4.4.2 Bi2O3光催化动力学模型
4.4.3 Bi2O3的重复利用性能
4.5 机理分析
4.5.1 光催化掩蔽实验分析
4.5.2 光催化降解机理分析
4.5.3 TCH溶液降解机理分析
4.6 本章小结
参考文献
5 Ce掺杂空心针状Bi2O3的制备及光催化性能研究
5.1 实验和表征方法
5.1.1 实验试剂和仪器
5.1.2 材料的制备
5.1.3 光催化实验
5.2 材料的表征方法
5.3 材料的表征分析
5.3.1 SEM分析
5.3.2 元素组成分析
5.3.3 比表面积分析
5.3.4 XRD分析
5.3.5 FT-IR分析
5.3.6UV-Vis DRS分析
5.3.7 PL荧光光谱分析
5.4 HNB-Ce的光催化性能研究
5.4.1 光催化性能
5.4.2 重复利用性能
5.4.3 稳定性能
5.4.4 光催化掩蔽实验分析
5.4.5 光催化性能提高的机理分析
5.5 本章小结
参考文献
6 结论与展望
6.1 结论
6.2 创新点
6.3 展望
攻读博士学位期间所获得的科研成果目录
致谢
东华大学;
