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目录
第一章 绪论
1.1 半导体器件及材料的发展历史
1.1.1 半导体器件数值模拟技术的发展
1.1.2 半导体器件数值模拟的定义
1.2 本论文主要研究内容
1.3 本章小结
第二章 半导体器件数值模拟过程
2.1 半导体器件模拟分类
2.2 器件模拟的基本方程
2.2.1 Poisson方程
2.2.2 电流连续性方程
2.2.3 载流子的输运方程
2.2.4 热传导方程
2.2.5 半导体器件的基本方程
2.3 载流子迁移率
2.3.1 晶格振动散射
2.3.2 电离杂质散射
2.3.3 载流子-载流子散射
2.3.4 中性杂质散射
2.3.5 位错散射
2.3.6 等同的能谷间散射
2.4 载流子的产生和复合
2.4.1 SRH复合
2.4.2直接复合
2.4.3俄歇复合
2.4.4表面复合
2.4.5碰撞电离
第三章 半导体器件物理参数模型
3.1 半导体的能带参数
3.2 载流子迁移率模型
3.2.1 掺杂浓度相关低场迁移率模型
3.2.2 常数低电场迁移率模型
3.2.3 解析的低电场迁移率模型
3.2.4 平行电场相关迁移率模型
3.2.5 Klaassen标准低电场迁移率模型
3.2.6 反型层迁移率模型
3.3 载流子产生模型
3.3.1 Selberherr碰撞电离模型
3.3.2Van Overstraeten-de碰撞电离模型
3.3.3 Grant 碰撞电离模型
3.3.4 Toyabe碰撞电离模型
3.4 载流子复合模型
3.4.1 SHR复合模型
3.4.2 SRH少子寿命与掺杂浓度相关复合模型
3.4.3 标准俄歇复合模型
3.4.4 Klassen温度相关俄歇复合模型
3.4.5 直接复合
3.5 宽禁带半导体材料物理模型的添加
3.5.1 能带参数的添加
3.5.2 迁移率模型的添加
3.5.3 复合模型的添加
3.5.4 生成率模型的添加
3.6 本章小结
第四章 模拟结果及分析
4.1 Silvaco软件对双极晶体管的仿真
4.1.1 器件结构
4.1.2 物理参数模型设定
4.1.3 平衡态仿真结果
4.1.4 Gummel曲线
4.1.5 输出特性曲线
4.2 Genius软件对双极晶体管的仿真
4.2.1 器件结构建模
4.2.2 Gummel曲线及与Silvaco软件的比较
4.2.3 输出特性曲线及与Silvaco软件比较
4.3GaN_Si npn HBT特性研究
4.3.1 器件结构及物理模型
4.3.2 物理参数模型设定
4.3.3 平衡态仿真结果
4.3.4 仿真结果
4.3.5 结论
第五章 结束语
致谢
参考文献
攻硕期间取得的研究成果