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孙剑;
复旦大学;
双重图案划分; 时序关键路径; 光刻层分配算法; 集成电路; 可制造性设计; 多层金属互连线工艺;
机译:考虑时序关键路径的双图案布线后布线层分配
机译:自对准双图案光刻技术,带有颜色预分配的详细布线
机译:通过使用严格的三维晶片形貌和光刻模拟,考虑局部反射率变化的双重图案的分割,重叠,缝合和工艺设计
机译:双重图案化的路由后层分配
机译:图案化有机硅烷自组装单分子层,嵌段共聚物光刻和薄膜性能,以及光诱导形成聚合物刷和单分子层。
机译:用于超宽带光吸收的金属-绝缘体多层中的无序纳米孔图案:用于光刻的原子层沉积无高度可重复的大规模多层生长
机译:用于双图案光刻的时序收益率颜色重新分配和详细的位置扰动
机译:扫描探针光刻。扫描隧道显微镜Tipparameters对自组装单层光刻图案的影响
机译:自动添加基于RTL的关键时序路径计数器以验证后硅软件验证工具的关键路径覆盖范围的系统和方法
机译:用于分析布局后时序关键路径的设备
机译:分析布局后时序关键路径的设备
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