红外窗口金刚石透波涂层沉积设备研制与涂层性能研究

摘要

化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition，CVD)金刚石具有优异的光学性能。近年来，金刚石涂层作为红外窗口增透或者保护涂层的应用成为人们关注的热点。为深入开展红外窗口金刚石涂层的应用基础研究并推动红外窗口金刚石涂层的产业化进程，本文从红外窗口金刚石涂层沉积设备的研制、金刚石涂层的透波及增透机理、涂层制备工艺、涂层的透波性能及膜/基结合性能等方面开展深入研究，分析各种因素对金刚石涂层红外透射率以及膜/基结合性能的影响，为红外窗口金刚石涂层产业化应用奠定基础。
　　 本文主要开展的研究工作如下：
　　 1.分析了金刚石沉积过程中反应室内衬底的热交换过程，建立了电子辅助化学气相沉积(Electron-Assisted CVD，EACVD)系统在衬底作无急回特性摆动时的衬底温度场动态模型，根据金刚石成膜过程中对衬底温度的工艺要求，对影响衬底温度场的热丝参数及衬底摆动参数进行了优化设计。根据EACVD系统的几何特点和工艺参数建立了该系统的三维流场有限元模型，利用该模型对摆动衬底表面的流场进行了模拟计算，研究了衬底温度及摆动周期、热丝参数、进气口参数对衬底表面流场均匀性的影响。
　　 2.在衬底温度场、空间流场仿真的基础上，针对传统多点测温以及现有EACVD设备所存在的一些问题，提出了带摆动衬底工作台的EACVD一体化系统的设计思路，实现系统的一体化、小型化，并满足制备红外窗口金刚石涂层的需要。多点测温实验以及金刚石涂层的沉积实验的结果表明，设备运行稳定，衬底温度场和空间流场可控，完全满足设计要求。
　　 3.对红外光学系统的透波、增透机理进行了分析，建立了红外窗口和金刚石涂层组成的膜系的透射率模型，根据透射率模型详细分析了影响膜系透射率的主要因素，为制备高质量、高透射率的红外窗口金刚石涂层提供理论指导。
　　 4.在单晶硅衬底上开展了微米及纳米金刚石透波涂层制备工艺的实验研究，对实验制备机理和工艺过程中的关键问题进行了深入的探讨和分析研究。使用Raman、场发射SEM、XRD、傅立叶红外光谱仪和三维形貌仪等现代理化手段对金刚石涂层的微结构和红外透射率进行表征。得到了工艺参数对金刚石涂层生长以及红外透射率的影响规律。结果表明，即使在最优工艺参数下制备的微米及纳米金刚石涂层在1000 cm-1～4000 cm-1波段范围内，增透效果不很显著，最高红外透射率低于50％，不能满足红外窗口涂层的应用要求。
　　 5.在微米及纳米金刚石涂层制备的基础上分别采用原位沉积法和交替沉积法进行金刚石红外透波复合涂层的制备研究，结果表明，采用交替沉积法制备的金刚石涂层具有较高的红外透射率，在1000 cm-1～4000 cm-1波段范围内最大透射率达62％，增透率达80％。研究了红外窗口金刚石透波涂层的膜/基结合性能，分析了不同工艺条件对金刚石涂层膜/基结合性能的影响，研究结果表明，采用交替沉积法制备的金刚石红外透波复合涂层具有较高的膜/基结合性能。