掺杂PZT 薄膜的制备及微结构与铁电性能研究
PREPARATION OF DOPED-PZT THINFILMS AND ITS MICROSTRUCTUREAND FERROELECTRIC PROPERTIES
摘 要
Abstract
目 录
Contents
第1章 绪论
1.1 引言
1.2 铁电存储器
1.3 铁电存储器的材料
1.4 铁电疲劳机理研究
1.5 PZT 薄膜的制备方法
1.6 PZT 铁电薄膜的改性研究现状
1.7 本文的主要研究内容
第2章 试验材料及研究方法
2.1 材料制备
2.2 掺杂PZT 溶胶成胶反应机制分析
2.3 PZT 粉体分析
2.4 薄膜的微结构分析
2.5 薄膜的铁电及介电性能测试
第3章 掺杂PZT 溶胶反应机制及粉体分析
3.1 引言
3.2 掺杂PZT 溶胶的制备
3.3 掺杂PZT 溶胶的成胶反应机制分析
3.4 掺杂PZT 粉体分析
3.5 本章小结
第4章 掺杂PZT 薄膜的微结构
4.1 引言
4.2 掺杂PZT 薄膜的制备工艺
4.3 掺杂PZT 薄膜相组成及取向性
4.4 溶胶-凝胶法PZT 薄膜的取向生长机制探讨
4.5 掺杂PZT 薄膜的织构
4.6 掺杂PZT 薄膜的形貌
4.7 本章小结
第5章 掺杂PZT 薄膜的铁电及介电性能
5.1 引言
5.2 PGZT 薄膜的铁电和介电性能
5.3 PYZT 薄膜的铁电和介电性能
5.4 PGNZT 薄膜的铁电和介电性能
5.5 本章小结
第6章 掺杂PZT 薄膜的改性机制分析
6.1 引言
6.2 Gd 与Yb 离子占位分析
6.3 掺杂PZT 薄膜的极化行为分析
6.4 掺杂PZT 薄膜的瑞利定律分析
6.5 本章小结
结 论
参考文献
攻读学位期间发表的学术论文
哈尔滨工业大学博士学位论文原创性声明
哈尔滨工业大学博士学位论文使用授权书
哈尔滨工业大学博士学位涉密论文管理
致 谢
个人简历