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第一章绪论
1.1 印制电路的现状与发展展望
1.2 印制电路工艺
1.3 典型光学曝光光刻技术
1.4 激光投影光刻技术
1.5 研究意义
1.6 国内外研究现状
1.7 研究内容
第二章 关键技术参数选择
2.1 关键技术参数的选择
2.1.1光刻机的分辨力R和像素P
2.1.2光刻机的部分相干因子
2.1.3照明系统的像差
2.1.4照明系统的输出光均匀性
2.1.5照明系统与投影系统的匹配
2.1.6照明系统输出光斑的形状和大小
2.1.7激光器参数分析
2.1.8曝光时间
2.2 与照明系统匹配的投影系统的介绍
2.2 结论
第三章照明系统的研究与设计
3.1 准分子激光器
3.2 常用匀光技术的简介与优缺点
3.3 基于复眼式照明系统的设计
3.3.1设计要点
3.3.2光学设计
3.3.3结果分析与讨论
3.4 基于万花筒式照明系统的设计
3.4.1设计要点
3.4.2结果分析与讨论
3.5 结论
第四章 准分子激光的部分相干性研究
4.1 准分子激光的理论模型
4.2 部分相干性的准分子激光通过扩束系统的研究
4.3 部分相干性的准分子激光通过复眼式透镜的研究
4.4 结论
第五章前沿的光学照明系统的研究
5.1问题的提出与解决思路
5.2目前取得的成果和遇到的问题
第六章全文总结
6.1 主要结论
6.2 后期工作展望
主要参考文献
发表的学术论文
致谢