【6h】

Giant Magnetostrictive Iron Based Alloy Thin Film for Optical Scanner

机译:用于光学扫描仪的超磁致伸缩铁基合金薄膜

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摘要

To develop an optical scanning device, the magnetostrictive alloy thin films were prepared on silicon wafer and polyimide substrate by d.c. magnetoron sputtering process. The TbFe_(1.8) film shows a giant positive magnetostriction of about 1200 ppm at 5 kOe, whereas the SmFe_(2.5) shows a giant negative magnetostriction of about 1200 ppm. The magnetostrictive alloy thin films device showed reproducibility below 5 kOe of magnetic field.
机译:为了开发光学扫描装置,通过直流电在硅晶片和聚酰亚胺衬底上制备了磁致伸缩合金薄膜。磁控溅射工艺。 TbFe_(1.8)薄膜在5 kOe处显示出约1200 ppm的正磁致伸缩,而SmFe_(2.5)薄膜显示出约1200 ppm的负磁致伸缩。磁致伸缩合金薄膜器件在低于5 kOe的磁场下显示出可再现性。

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