a Center for Advanced Plasma Surface Technology and Department of Materials Engineering, HanKuk Aviation University, 200-1, KoYang, KyungKi-Do 412-791, South Korea b Division of Chemical Metrology and Materials Evaluation, Korea Research Institute of Sta;
机译:垂直磁控管源封闭磁场非平衡磁控溅射合成Cr-Zr-N薄膜的结构和力学性能
机译:硅含量对垂直磁控源封闭场不平衡磁控溅射沉积TiAl-Si-N薄膜性能的影响
机译:封闭场不平衡磁控溅射制备ZrCrAlN纳米结构薄膜的结构和力学性能
机译:17-4PH不锈钢上不平衡磁控溅射沉积合成的Ti / TiN多层膜的微观结构和力学性能
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:DC不平衡磁控溅射沉积的纳米晶(TiZR)XN1-XHIN膜的结构与性能