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Low-temperature solution-processed metal oxide buffer layers fulfilling large area production requirements

机译:低温固溶处理的金属氧化物缓冲层满足大面积生产要求

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摘要

This paper is a review of our previous work on the field of low temperature, solutionprocessed metal oxide buffer layers published in various journals. Our work focuseson zinc oxide (ZnO) and aluminum-doped zinc oxide (AZO) as n-type andmolybdenum oxide (MoOsub3/sub) as p-type solution processed buffer layer. In addition tothat, we investigate the surface modification of AZO using phosphonic acid-anchoredaliphatic and fullerene self assembled monolayers (SAMs).© (2012) COPYRIGHT Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE). Downloading of the abstract is permitted for personal use only.
机译:本文是对我们先前在低温,固溶处理的金属氧化物缓冲层领域进行的研究的综述,这些研究发表在各种期刊上。我们的工作重点是作为n型氧化锌(ZnO)和掺铝的氧化锌(AZO)和作为p型溶液处理的缓冲层的氧化钼(MoO 3 )。除此之外,我们还研究了使用膦酸-锚定脂族和富勒烯自组装单分子膜(SAMs)对AZO进行表面改性的方法。©(2012)版权所有,美国光电仪器工程师协会(SPIE)。摘要的下载仅允许个人使用。

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