Process Development Team, Semiconductor RD Center, Samsung Electronics, San #24, Nongseo-Rid, Giheung-Eup, Yongin-City, Gyeonggi-Do 499-711, Korea;
multiple phase-phase shift mask; focus monitoring; double side polished wafer; single side polished wafer; process window;
机译:通过减少低于60 nm DRAM器件中钨双多晶硅栅极堆叠上的工艺驱动的热应力,减少自对准接触故障的工艺设计
机译:大功率CO_2激光材料加工中激光诱导等离子体对光束聚焦影响的实验研究
机译:在热等离子体和快速离子流与被测材料的相互作用下,密集等离子体聚焦设备中发生的物理过程
机译:采用新型SOG的高度可制造,低热量,无空隙和无接缝的预金属介电工艺,适用于60nm以上的DRAM和其他器件
机译:原位集成减少的热预算处理以及高级电子材料和设备的表征
机译:模仿自然加工的功能化丝绸整形外科器械的再生丝绸材料
机译:退火诱导在聚焦离子束中的残余捕获电荷的耗散处理用于装置应用的宽带隙材料。
机译:组织作为信息处理系统。走向市政府组织预算相关影响的战略突发事件模型。