Span 20/Tween 20系界面活性剤からなる自己集合体の 疎水基部分の深さに伴う誘電率変化

摘要

界面活性剤からなる自己集合体はミセルやベシクル など様々な構造を形成する．さらに熱や光，pH の変 化など外部からの刺激に応答する性質を持った界面活 性剤を用いることで，自己集合体の崩壊や再構成など の制御が可能となり，薬剤カプセルなどへの応用が期 待されている．自己集合体を薬剤カプセルとして用い る際には疎水性薬剤の封入率の向上を目指す上で自己 集合体の様々な深度での疎水領域の極性を解明するこ とは非常に重要である．自己集合体内部の疎水領域の 極性は pyrene などの環境応答性の蛍光物質を用いて 検討されてきた．しかし pyrene は疎水領域で上下方 向に動くため疎水領域のどの深度での極性を評価して いるのか明確でないと考えられる．従来では pyrene に炭素鎖長の異なるカルボン酸を修飾させた蛍光プ ローブを用い，カルボキシ基を親水基として様々な深 度での極性の評価が行われているが，リポソーム以 外の自己集合体の検討は行われていない．そこで本研 究では，1-pyrenemethanol と様々な炭素鎖長のジカル ボン酸を縮合することにより蛍光プローブを合成し， Span 20 / Tween 20 系界面活性剤からなるミセルやベ シクルなどの構造を有する自己集合体の疎水基部分の 様々な深度における極性を誘電率により評価した．