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HAT-CN/ Ag/ HAT-CNを透明陽極に用いた有機EL素子の作製と評価

机译:用于透明阳极的帽子CN / AG /帽子/帽CN的有机EL器件的制备与评价

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摘要

誘電体/金属/誘電体 (DMD)薄膜は M のフェルミ準位の D へのピン止めによる導電性と透明性を有するため、ITOに代わる透明導電膜として注目されている。我々はMoO_3/ Ag/MoO_3(MAM)を逆構造の有機EL素子の陽極として検討している。本研究では新たに半導体であるMの代わりに5eV以上の深いLUMOを有し可視領域で透明なHAT-CN(H)を用い、銀(A)膜のフェルミ準位が H 膜の LUMO にピン止めされることによるH膜の導電性がHAHの導電性に寄与することを期待した。
机译:电介质/金属/介电(DMD)薄膜作为替代ITO的透明导电膜引起关注,因为它具有通过钉扎到M的MERMI水平的D.的导电性和透明度。我们将MOO_3 / AG / MOO_3(MAM)作为有机EL器件的逆的阳极检查。在这项研究中,我们具有一个新的半导体,该半导体是一种新半导体的半导体,并且在可见区域中使用透明帽-cn(h),并且银(a)薄膜的费米水平是Pin Lumo。它是预期的H膜引起的阻止导电性导致HAH的电导率。

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