EHS-friendly aqueous PER remover; Plasma etch residues; Al-technology; XPS;
机译:干法刻蚀和灰分条件对铝金属化过程中等离子刻蚀残渣可去除性的影响。通过EHS友好型除水剂提高PERCleaning效率的方法
机译:干蚀刻和灰化条件对金属化过程中Pi蚀刻残余物可去除性的影响。通过EHS友好型水去除剂提高PER清洁效率的方法
机译:等离子刻蚀多孔SiCOH表面和等离子刻蚀残留物清洁溶液的表面能和润湿行为
机译:干蚀刻和灰分条件对铝金属化等离子体蚀刻残基可移除性的影响。 EHS友好的含水卸妆处理每种清洁效率的方法
机译:应用工具科学技术提高干刻集群工具的工具效率