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Status of AlGaN/GaN HEMT technology - a UCSB perspective

机译:Algan / GaN HEMT技术的现状 - UCSB透视

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摘要

The following major technological advances (i) the ability to grow high quality materials on sapphire and SiC, (ii) the advent of SiN passivation to eliminate current slump or dispersion, (iii) advanced processing, and (iv) implementation of field plates have taken AlGaN/GaN HEMTs to commercialization in the relatively short time of approximately a decade. In this paper, we present the highlights of this research.
机译:以下主要技术进步(i)能够在蓝宝石和SIC上种植高质量的材料,(ii)在犯罪中消灭当前坍落度或分散,(iii)先进的加工和(iv)的实地板的实施在大约十年的相对较短的时间内将Al​​gan / GaN Hemts采用商业化。在本文中,我们提出了这项研究的亮点。

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