机译:用于低能电子束投影光刻的亚50 nm模板掩模
机译:基于Monte Carlo模拟的低能电子束光刻模板掩模结构因子优化。
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:一种用于制造悬浮掩模的使能技术,用于在超高压环境中完成器件制造
机译:1X模板面罩制造及其在低能量电子束接近光刻(LEEPL)中的使用
机译:使用离子束近距离光刻技术制造环形纳米结构。
机译:基于纳米级聚合物荫罩的模板纳米光刻技术:走向有机纳米电子学
机译:用于电子束光刻的高对比度3D接近校正:用于制造悬挂掩模的使能技术,用于在UHV环境中完成器件制造
机译:用于高分辨率离子光刻接近印刷的氮化硅模板掩模。