机译:印刷蜡掩膜,用于基于PMMA的微流体的254 nm深紫外图案化
机译:用于电子束光刻的高分辨率图案化的新型化学增强抗蚀剂
机译:化学放大的分子抗蚀剂,用于电子束光刻
机译:e-beam和深紫色的PMMA抗蚀剂曝光:相同或不同的化学行为?
机译:电子束生成等离子体中高级抗蚀剂蚀刻的比较。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:使用化学扩增的表面甲硅烷基化的单层抗蚀剂,用于深紫色和真空 - UV光刻。
机译:自发光聚硅烷深紫外线抗蚀剂 - 光化学,光物理和亚微米光刻