CMOS integrated circuits; avalanche photodiodes; current density; electro-optical devices; elemental semiconductors; light emitting diodes; p-n junctions; silicon; 1 micron; 450 to 750 nm; avalanching silicon n/sup +/p light emitting junction; current density; forwa;
机译:基于注入雪崩的n〜+ pn硅互补金属氧化物半导体发光器件(450-750 nm),其发光强度提高了2个数量级
机译:通过有效洗涤过程和界面能量水平对准,高效钙钛矿量子点发光器件
机译:含Si重掺杂GaN过渡层的375 nm紫外InGaN / AIGaN发光二极管的生长模式,内部量子效率和器件性能的研究
机译:使用电流密度和载流子注入技术的高效硅CMOS发光器件(450nm- 750nm)
机译:III型氮化物发光二极管内部量子效率提高和效率下降问题的设备工程
机译:嵌入氮化硅薄膜中的硅量子点与金纳米粒子在发光器件中的耦合增强了电致发光
机译:从氮化硅薄膜中的硅量子点的增强的电致发光,耦合在发光器件中的金纳米粒子中