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混合薄膜の光学応答解析:クレッチマン配置における薄膜構造とブラズモン励起

机译:混合薄膜的光学响应分析:Klechmann排列中的薄膜结构和Brasmon激发

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摘要

クレッチマン配置における混合薄膜を用いた電磁界シミュレーションは,混合薄膜に使用された媒質の光学応答特性などの把握に重要である.本文では,複数の金属媒質により構成された混合薄膜を用いたクレッチマン配置の電磁界解析を行い,混合薄膜の構造及びその数値モデルについて検討する.電磁界解析手法にはFDFD(Finite-Difference Frequency-Domain)法を用いる.混合薄膜は組成比に応じて複数の金属媒質を空間的に配置した構造と,混合媒質としてーつの金属薄膜と仮定し配置した構造を用いて反射率やプラズモン励起強度の比較を行い,混合媒質に使用する構造の評価を行う.
机译:使用Kletchmann排列的混合薄膜进行的电磁场模拟对于理解混合薄膜中使用的介质的光学响应特性非常重要。本文中,使用由多种金属介质组成的混合薄膜的Kletchman排列对混合薄膜及其数值模型进行了研究,电磁场分析方法采用FDFD(Finite-Difference Frequency-Domain,有限差分频率域)法,根据组成比,混合薄膜是多种金属介质。使用空间排列的结构和假定为一种金属薄膜的结构作为混合介质来比较等离子体激元激发强度,并评估用于混合介质的结构。

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