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【24h】

m級無絶縁REBCOパンケーキコイルの局所的常電導転移時における銅安定化層厚と層間接触抵抗の熱的安定性に対する影響

机译:铜稳定层厚度和层间接触电阻在局部正常组成型REFCO煎饼卷线上局部正常组成型转变中的热稳定性

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摘要

今回はm級実規模NIコイルにおいて局所的線材劣化が発生した場合の電磁的·熱的振る舞いについてPEECモデルを用いた解析を行い、銅安定化層厚と層間接触抵抗の変化がどのような影響を与えるかについて検討を行った。その結果銅安定化層についてはlμm程度でも十分な熱的安定性が確保されるため、電流密度の向上を目的とした銅安定化層の削減が有効であることが分かった。また層間接触抵抗は発熱密度低下によるホットスポット抑制効果が十分に得られる範囲で最大の値をとることによって励磁遅れ時間の軽減との両立が可能であることが分かった。 今後は多段積みパンケーキコイルの諸特性解明や、低運転温度下·高電流通電時の熱的安定性の検討を行っていく予定である。
机译:这一次,在M级真正的Ni线圈中发生局部线劣化的情况下,对电磁和热行为的分析,以及铜稳定层厚度的变化以及层间接触电阻的变化是我们检查的影响给予。结果,即使在约1μm处,铜稳定层具有足够的热稳定性,因此发现用于改善电流密度的铜稳定层的还原是有效的。另外,发现层间接触电阻具有在由于发热密度降低而充分获得热点抑制效果的范围内的最大值,并且可以实现激励延迟时间的降低。在未来,我们将考虑多级泛蛋糕线圈的特性,并在高电流下检查低工作温度和高电流的热稳定性。

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