optical endpoint detection; interferometry; CMP; STI stack profile; wafer pattern; diffraction; scattering; wavelength;
机译:浅沟槽隔离过程中氧化物模式密度变化对电机电流终点检测的依赖性化学机械平面化
机译:矩形沟槽氧化铈浆液在浅沟槽隔离化学机械平面化中的非Prestonian行为
机译:浆料注射系统位置对浅沟槽隔离化学机械平坦化使用二氧化铈浆料的去除率的影响
机译:浅沟槽隔离型材在化学机械平坦化步骤中的光照行为及其通过干涉测量与光学终点系统的相关性
机译:二氧化硅,钨和浅沟隔离化学机械平面化工艺与垫微纹理,调节圆盘型和年龄,摩擦学,流体动力学和动力学相关的新型研究
机译:转移性乳头状甲状腺癌的结外扩展:与生化终点淋巴结持久性和全身性疾病进展的相关性。
机译:浅沟渠隔离和替代栅极技术化学机械平面化的替代优化技术