EUV Mask Defect Reduction; EUV Lithography; EUV mask blank defect failure analysis; defect characterization;
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:光化掩模空白检查和信号分析,可检测高度低至1.5 nm的相位缺陷
机译:使用空白检查,图案化掩模检查和晶圆检查来评估极端紫外线掩模缺陷
机译:薄膜装饰技术对亚20 nm euv掩模空白缺陷的检查和组成分析
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:钢结构内缺陷的热敏检查:脉冲热成像信号处理技术分析
机译:EUV掩模空白的Sub 20粒子检查