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Investigation of phase-shift mask shifter defect printability and inspection techniques

机译：相移掩模移位器缺陷可印性和检查技术的研究

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来源
《Photomask and X-Ray Mask Technology III》|1996年|p.242-250|共9页
会议地点
作者
Yasuhiro Koizumi; Hitachi; Ltd.; Kodaira-shi; Japan; Daniel Lopez; KLA Instruments Corp.; San Jose; CA; USA.;
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作者单位

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正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
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