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Characteristics of Ta4B/SiC x-ray mask blanks

机译：Ta4B / SiC x射线掩模板的特征

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《Photomask and X-Ray Mask Technology III》|1996年|p.219-224|共6页
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作者
Ryou Ohkubo; HOYA Corp.; Akishima-shi Tokyo; Japan; Tsutomu Shoki; HOYA Corp.; Akishima-shi Tokyo; Japan; Hideaki Mitsui; HOYA Corp.; Akishima-shi Tokyo; Japan; Noromichi Annaka; HOYA Corp.; Akishima-shi; Tokyo; Japan; Yoh-ichi Yamaguchi; HOYA Corp.; Tokyo; Japan.;
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中图分类无线电电子学、电信技术;
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